1、给模型拆分uv。并给模型一个简单的材质球。把模型的光滑组分好。建立一个地面，作为光阴的投射来源。

2、打开Rendering板块-----Lighting/Shading--batch Bake(mental ray),点击后面的小窗口，开始设置参数。

3、勾选skip objects in initialbakesets(跳过对象的初步烘烤集)以及use bake set override(使用集覆盖),勾选 Bake shadows(烘烤阴影)，然后也更改下面的选项。

4、将Coloe mode 的选项改为Occlusion,下面 Occlusion rays(遮挡光线)的值更改高一点，这样才能让光线更加明显一点，可以设置为128.接下来将Normal direction(法线方向)设置为 Surface front(地面,即有地板的约束)。

5、将prefix 设置为 baked ，下面x/y resolution(贴图大小)设置自己所要的大小 ，下面是文件存储格式。设置Number of samples的值，或根据自己的情况而定，并勾选Bake to one map。

6、这些数据基本上不用调整了，可以的话可以调整final gather reflect(最终聚集反映)，将其增大一点。

7、最后，将 Fill texture seams (填充纹理接缝)的值设置大一点，可以使光阴贴图更好的包裹贴图。设置ok后，直接点击Convert 就开始烘焙了。烘ao的时候速度有点慢，耐心等待下。等烘ok后，贴图会直接贴在模型上。

8、这是直接用低模烘焙出来的效果，可以看出上面的效果还有些菱形感，不怎么好。那我们可以直接将模型smooth一下，再烘焙一次。

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